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三星7nm提早半年完工 全球首个极紫外光刻来了!

8-4-2018 06:09 PM| 发布者: Cari_Chong | 评论: 4

摘要: 7nm制程工艺的成功,也意味着全球首个极紫外光刻(EUV)技术的成功。
据外媒报道,三星(Samsung)已经完成了7nm新工艺的研发,而这比预期足足提早了半年!这也为三星在和台积电抢夺高通骁龙855的代工之战中,奠定了基础。

图片取自phonearena.com



7nm制程工艺的成功,也意味着全球首个极紫外光刻(EUV)技术的成功。EUV极紫外光刻技术难度极高,可说是下一代,甚至未来几代制程工艺的主要技术,所以三星这次提前完工占了很大的先机。

有鉴于此,高通已经将新的芯片样品送交三星进行测试,就不知道是不是骁龙855了。

图片取自phonearena.com

据消息人士透露,三星7nm研发团队在完成任务后,已经全面转向了5nm工艺的研发,而两种工艺将共享一个设计数据库(DB),所以下一步的难度将会大大降低。

今年年底,Intel(英特尔)也有望推出10nm制程工艺处理器。虽然从晶体管密度来看,Intel 10nm技术或许将领先三星的7nm制程技术,不过,话说Intel的这个技术也“迟到”好几年了。
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引用 leouy 8-4-2018 08:12 PM
intel不敢把10nm吹成7nm
引用 putrajaya22 9-4-2018 10:17 AM
{:childlike 台积电暂时输了个头~
引用 tauruslau 9-4-2018 01:28 PM
骁,念“消”。
引用 filenes 11-4-2018 06:10 AM
对于高通 5G 行动晶片有意採用三星 7 奈米 LPP EUV 製程生产,法人表示,台积电 7 奈米製程今年第二季便将量产出货,相较三星 7 奈米製程 2019 年才可望量产,台积电在 7 奈米製程仍居领先地位.

查看全部评论(4)


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